蒸鍍機-FS-G1-3

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產品參數

極限真空 ≤2×10 -5Pa 保壓12小時 壓強≤5P a

膜厚均勻性 ≥97% 重復性 ≥97%

基片尺寸 ≤200×200mm

樣品腔標準為10層卡夾 可存放基片與mask


適用范圍

OLED材料量產前驗證、微顯示器件的研發等。


核心技術

真空密封設計、高精密對位、膜厚及真空壓力控制。


產品特色

小方塊.jpg 一體化程度高,適配性強,可對接多種功能的設備。

小方塊.jpg 智能性強,操作系統植入誤操作互鎖程序,可避免操作失誤。

小方塊.jpg 可實現自動取放基片以及更換mask。

小方塊.jpg 功能性強,有2 0 組蒸發源,可做到多源共蒸,幾乎滿足所有的蒸鍍要求。


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